ग्रेफाइट इलेक्ट्रोड उत्पाद पैरामीटर

वर्तमान वहन क्षमता

नामिका व्यास		आरपी		हिमाचल प्रदेश		यूएचपी
नामिका व्यास		वर्तमान वहन क्षमता	वर्तमान घनत्व	वर्तमान वहन क्षमता	वर्तमान घनत्व	वर्तमान वहन क्षमता	वर्तमान घनत्व
में	मिमी	A	ए/सेमी 2	A	ए/सेमी 2	A	ए/सेमी 2
12	300	10000-13000	14-18	13000-17400	17-24	15000-22000	20-30
14	350	13500-18000	14-18	17400-24000	17-24	20000-30000	20-30
16	400	18000-23500	14-18	21000-31000	16-24	25000-40000	19-30
18	450	22000-27000	13-17	25000-40000	15-24	32000-45000	19-27
20	500	25000-32000	13-16	30000-48000	15-24	38000-55000	18-27
22	550	32000-40000	13-16	35000-55000	14-22	42000-64000	17-26
24	600	35000-41000	13-15	41000-61000	14-21	50000-73000	17-25
28	700	39000-48000	10-12	55000-82000	14-21	67000-99000	17-25
32	800	43000-54000	8-10	/	/	/	/

उद्धरण के लिए हमसे संपर्क करने के लिए आपका स्वागत है।

ईमेल: info@zaferroalloy.com

पता: Huafu वाणिज्यिक केंद्र, वेनफेंग डिस्ट्रिक्ट, अनंग सिटी, हेनान प्रांत, चीन

इलेक्ट्रिक आर्क भट्ठी (ईएएफ) इलेक्ट्रोड, आकार 100-750 मिमी, विशेष कंडक्टर हैं जो ईएएफ स्टीलमेकिंग के परिचालन रीढ़ की हड्डी का निर्माण करते हैं, जहां वे विद्युत ऊर्जा को इलेक्ट्रोड टिप और पिघला हुआ धातु स्नान के बीच बढ़ने के माध्यम से तीव्र गर्मी में परिवर्तित करते हैं।

प्राथमिक कार्य:

•आर्क जनरेशन: इलेक्ट्रोड टिप, भट्ठी में उतरते हुए, एक इलेक्ट्रिक आर्क (आयनित प्लाज्मा) बनाता है जो 40-90 मिनट में 50-300-टन स्क्रैप चार्ज को पिघला देता है। बड़े ईएएफएस (200+ टन) के लिए, 600-750 मिमी इलेक्ट्रोड बड़े पैमाने पर स्क्रैप वॉल्यूम के बावजूद स्थिर आर्क बनाए रखते हैं।

•ऊष्मा वितरण: टेप किए गए प्रोफाइल (1-2 डिग्री कोण) यहां तक कि वर्तमान प्रसार सुनिश्चित करते हैं, स्थानीयकृत ओवरहीटिंग (जो टिप को मिटा देते हैं) और कोल्ड स्पॉट (जो धीमी गति से पिघलने) को रोकते हैं।

•रासायनिक शोधन: वर्तमान प्रवाह विद्युत चुम्बकीय सरगर्मी को प्रेरित करता है, पिघले हुए स्टील और स्लैग के बीच मिश्रण को बढ़ाता है ताकि डिसल्फराइजेशन को तेज किया जा सके<0.005%), dephosphorization, and inclusion removal.

तकनीकी विनिर्देश:

•आकार-वर्तमान सहसंबंध: 100-200 मिमी (10-30 केए, लैब ईएएफएस); 300-500 मिमी (30-80 ka, मध्यम आकार के ईएएफएस); 500-750 मिमी (80-120 ka, मेगा-बाद)।

•सामग्री और विनिर्माण: उच्च शुद्धता ग्रेफाइट (राख)<0.3%) is extruded, baked (1,000–1,200°C), and impregnated (with pitch) to reduce porosity (<15%) and enhance density (1.65–1.75 g/cm³). Isostatic pressing ensures uniform strength, critical for large electrodes.